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手提式紫外差分氣體分析儀ERUN-QB8610 多參數氣體
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手提式紫外差分氣體分析儀ERUN-QB8610
多參數氣體
產品描述
手提式紫外差分氣體分析儀ERUN-QB8610用于：以差分紫外吸收光譜分析技術（DOAS）為核心，采用差分紫外吸收光譜技術和化學計量學算法測量固定污染源排氣中的SO2、NO、NO2、CO、CO2、O2等成分濃度的一款光學檢測儀器。
ERUN-QB8610手提式(shi)紫(zi)外差分氣(qi)體分析儀(yi)產(chan)品概述(shu)：
手提式紫外差分氣體分析儀ERUN-QB8610用于：以差分紫外吸收光譜分析技術（DOAS）為核心，采用差分紫外吸收光譜技術和化學計量學算法測量固定污染源排氣中的SO2、NO、NO2、CO、CO2、O2等成分濃度的一款光學檢測儀器，其內部采用進口光學核心部件，不受煙氣中水蒸氣影響，具有較高的測量精度和穩定性，特別適合高濕低硫工況測量，具有測量精度高、可靠性強、響應時間快、使用壽命長等優點。
采用7寸高清彩屏實時顯示，采用進口高分辨光譜儀、行業知名品牌的氣體傳感器，先進的電路設計、成熟的內核算法處理，獨特的外形設計，取得了多項軟件著作和外觀等專利。適用于煙氣排放，脫硫脫硝、鍋爐尾氣、VOCs尾氣排放、污水管道等需要氣體檢測分析的場合。
手提式紫外差分氣體分析儀
ERUN-QB8610手(shou)提式(shi)紫外差分氣體分析儀檢測原理：
檢測儀測量原理是采用差分紫外吸收光譜技術，紫外光與分子相互作用時被分子吸收導致光能的變化，由于不同分子內部電子能級的躍遷能量和幾率的不同，使得不同分子具有特征吸收光譜，工作原理基于Beer-Lambert（比爾-朗伯）定律。
檢測儀的光路部分由光源、氣室、光纖和光譜儀等光學組件構成。
光源發出的紫外光經光學視窗進入氣室，被流經氣室的被測樣氣所吸收，攜帶被測樣氣吸收信息的光經透鏡匯聚后耦合入光纖，經光纖傳輸送入光譜儀進行分光、采樣處理，得到氣體的吸收光譜；通過對光譜進行分析，可以分析出氣體中相關組分的濃度。
將樣氣按照檢測儀能夠接受的壓力、溫度、濕度、流量、（含塵量）、以及干凈程度完成其處理功能，主要完成以下幾項工作：
樣品取樣：用真空取樣泵或直流無刷泵將樣氣從煙道等環境中抽出
粉塵過濾：被測氣體經過精密粉塵過濾器再進入取樣管路，如果是高粉塵環境需要選配自動反吹系統
除濕功能：雙級高效冷凝除濕系統，將氣體的露點穩定控制在4℃或5℃
氣水分離：樣氣經取樣管路降溫以后出現游離水，氣水分離器將氣、水、殘余粉塵分開，自動排水
二次過濾：根據現場濕度大小選配，進行二次水汽分離
檢測分析：實時檢測并顯示濃度，并以4-20mA/RS485等信號方式傳輸數據，也可以通過無線傳輸或網絡傳輸到遠程服務器或環保局、監測站
流量調節：控制氣體的進氣量
氣體切換：進行被測氣體、標準氣體或空氣的切換
 
ERUN-QB8610手提式紫(zi)外差分氣(qi)體分析儀產品(pin)特(te)點：
  • 防水設計，防護等級IP66，檢測快速，可靠，穩定
  • 整(zheng)機結構一體(ti)化設(she)計，無需進(jin)行繁瑣的連管接線，便攜實(shi)用
  • 采用差分紫外技術(shu)（DOAS），溫度漂移小、測量精度高，可測超低濃度
  • 自動識別被測(ce)氣體(ti)(ti)的類(lei)型(xing)和濃度(du)，常見的可被測(ce)氣體(ti)(ti)有NO、NO2、SO2、NH3、H2S、O3、苯、甲苯、二甲苯等
  • 可定制(zhi)長光程氣池，NOX、SO2分析雙量程設計，根據濃度值自動切換量程控制
  • 各氣(qi)體濃度圖表實時顯(xian)示(shi)，顯(xian)示(shi)比例可(ke)調整
  • 電(dian)池(chi)容量(liang)：5AH，更大容量可定制
  • 測(ce)(ce)量(liang)方式(shi)(shi)可(ke)定制自(zi)(zi)動、手動模式(shi)(shi)，自(zi)(zi)動模式(shi)(shi)下可(ke)設置單次測(ce)(ce)量(liang)時(shi)間和測(ce)(ce)量(liang)次數
  • 檢出(chu)下(xia)限(xian)低，不受水分(fen)和粉塵影響，抗(kang)干(gan)擾能力強，可避免氣體間(jian)的(de)交叉干(gan)擾
  • 內(nei)置加熱(re)裝置，低溫時自(zi)動啟動加熱(re)功能(neng)，使檢(jian)測儀可(ke)在嚴寒地區使用
  • linux操作系統，支持中、英文顯示
  • 工業高(gao)速(su)嵌入式工控機，控制精準、速(su)度快(kuai)
  • 設計(ji)開發windows環境下微機數據庫及通信系統軟件，實現微機通訊進行存儲、打印
  • 配備豐(feng)富人(ren)機(ji)接口，支持(chi)鼠標(biao)、U盤、鍵盤、觸摸板、打印機等設備
  • 可(ke)選配自動(dong)反吹系統
  • 一鍵切換至反吹(chui)狀態，即使儀器在煙道中(zhong)，也可對氣(qi)路吸入新(xin)鮮空氣(qi)，用(yong)于保護后(hou)端電化學傳感(gan)器或對儀器進行調零操作(zuo)
  • 可通(tong)過互(hu)聯網遠(yuan)程實時(shi)監控(kong)工作狀(zhuang)態，實現儀器的運行狀(zhuang)態和安全(quan)的全(quan)程監控(kong)，規范質控(kong)管理
ERUN-QB8610手提(ti)式紫外(wai)差分(fen)(fen)氣體分(fen)(fen)析(xi)儀技術參(can)數：
檢測(ce)參數(shu) NO、NO2、SO2、NH3、H2S、O3、CO、CO2 苯、甲(jia)苯、二甲(jia)苯等
應(ying)用場合 煙氣排放(fang)，脫(tuo)硫(liu)脫(tuo)硝、鍋爐尾(wei)氣、VOCs尾氣(qi)排放、污水管道氣(qi)體檢測分析
檢測范(fan)圍 0-2、10、20、50、100、500、1000、2000ppm，其(qi)他量程可定制
分 辨 率 0.01ppm或(huo)0.001ppm（0～10 ppm）；
0.01ppm（0～100 ppm）；
0.1ppm（0～1000 ppm）；
1ppm（0～1000 ppm以上）；
0.01mg/L（0～100 mg/L）；
0.1%LEL；
0.01%Vol；
0.001%Vol；
檢測原理 差分紫外(wai)（DOAS），可(ke)根據氣體類型、量程、現場環境和用戶需求而定。
最(zui)大(da)允許
 誤差(cha)值		 ≤±3%F.S  （更高精(jing)度(du)可訂制(zhi)）
線 性 度(du) ≤±2% 重 復 性  ≤±2% 不確定度 ≤±2%
響應時間 T90≤30秒 恢復時間 ≤30秒
工作環境 溫度：-20～+55℃（典型值） -40～+70℃（極限值），濕度(du)：10～95%RH （常規）非凝露場合
顯示方(fang)式(shi) 7寸觸摸彩屏顯示
樣氣溫度  -40～+70℃（標準），選(xuan)配：- 40℃~800℃、- 40℃~1300℃，更高溫度(du)的檢測分析需(xu)定(ding)制
輸出(chu)信號(hao) 4~20mA、RS485、多路(lu)無(wu)源(yuan)觸(chu)點，選配：無(wu)線(xian)傳輸(shu)、網(wang)絡傳輸(shu)
工作電源 24V ，5AH大容量可充電(dian)聚合物鋰電(dian)池
工作方式 泵吸(xi)式測量
報(bao)警(jing)方式 選配一(yi)體(ti)式聲光報警器(qi)，外置型
防護等(deng)級 IP66  戶外(wai)防水型
防爆(bao)類型 本(ben)質安(an)全型
防爆(bao)標志(zhi) Ex ia IIC T4 Ga
執行標準 《固(gu)定污染源廢氣氮氧化(hua)物的測定紫外吸收(shou)法》 DB37/T 2704－2015
《固定污染源廢氣二(er)氧化硫的(de)測定紫(zi)外吸收法》 DB37/T 2705－2015
DB37/T2641-2015 《便攜(xie)式紫(zi)外吸收(shou)法(fa)多氣體測量系(xi)統技術(shu)要求及(ji)檢測方法(fa)》
HJ 1131-2020 《固定污染源廢氣 二(er)氧(yang)化硫的測定 便攜式紫(zi)外吸收法》
外型尺(chi)寸 125*210*410mm
配(pei)件(jian)清單 手提式差分紫外氣體(ti)檢測儀 1套
產品(pin)說明(ming)書(shu) 1本
 
可測氣體：
檢測氣體 量程(cheng) 精度 最小讀數
可燃氣(qi)( E× ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
可燃氣( E× ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.1%Vol
甲(jia)烷( CH4 ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
甲烷( CH4 ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.1%Vol
氧氣(qi)( O2 ) 0-30%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
氧氣(qi)( O2 ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
氧氣( O2 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氧氣( O2 ) 0-50000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
一(yi)氧化碳(tan)( CO ) 0-500ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
一氧化(hua)碳( CO ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
一氧化碳( CO ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
一氧化碳(tan)( CO ) 0-20000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
一氧化碳(tan)( CO ) 0-100000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
一(yi)氧(yang)化碳( CO ) 0-100%VOL ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
二氧(yang)化碳(tan)( CO2 ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化(hua)碳( CO2 ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧(yang)化碳( CO2 ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧(yang)化碳(tan)( CO2 ) 0-50000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化(hua)碳( CO2 ) 0-20%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
二氧化碳(tan)( CO2 ) 0-50%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
二氧(yang)化(hua)碳( CO2 ) 0-10%VOL ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
甲醛( CH2O ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
甲醛( CH2O ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
甲(jia)醛( CH2O ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
臭氧( O3 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
臭氧( O3 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
臭(chou)氧(yang)( O3 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
臭氧( O3 ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
臭氧(yang)( O3 ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
臭氧(yang)( O3 ) 0-30000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
硫化氫( H2S ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
硫(liu)化(hua)氫( H2S ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
硫化氫( H2S ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
硫化氫( H2S ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
硫化(hua)氫( H2S ) 0-20000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
硫(liu)化氫( H2S ) 0-50000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
硫化(hua)氫( H2S ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二(er)氧化硫( SO2 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
二氧化硫( SO2 ) 0-20ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
二氧(yang)化硫( SO2 ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
二氧化硫(liu)( SO2 ) 0-500ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
二氧化硫( SO2 ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化硫( SO2 ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化硫( SO2 ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
一氧(yang)化氮( NO ) 0-25ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
一氧(yang)化氮( NO ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
一氧化氮( NO ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
一氧化氮(dan)( NO ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化氮( NO2 ) 0-20ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
二氧化(hua)氮(dan)( NO2 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
二氧化(hua)氮( NO2 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化氮( NO2 ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氮氧化物(wu)( NO× ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氮氧化物( NO× ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氯氣( CL2 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
氯氣( CL2 ) 0-20ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氯氣( CL2 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
氯氣( CL2 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氨(an)氣( NH3 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氨(an)氣( NH3 ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氨氣( NH3 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氨氣( NH3 ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氨氣( NH3 ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氨(an)氣( NH3 ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
氫氣( H2 ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
氫氣(qi)( H2 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
氫(qing)氣( H2 ) 0-20000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氫氣( H2 ) 0-40000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氫氣( H2 ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
氦氣(qi)( He ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
氬氣( Ar ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
氙氣( ×e ) 0-100%Vol ＜±3%(F.S) 0.01%Vol
氰化氫( HCN ) 0-30ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氰化氫( HCN ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氯化(hua)氫(qing)( HCL ) 0-20ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氯化氫( HCL ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
氯化氫( HCL ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
磷(lin)化氫( PH3 ) 0-5 ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
磷(lin)化氫( PH3 ) 0-25 ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
磷化(hua)氫(qing)( PH3 ) 0-2000 ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二氧化氯(lv)( CL O2 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
二氧化(hua)氯( CL O2 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
二氧(yang)化氯( CL O2 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
環氧乙(yi)烷(wan)( ETO ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
環氧乙烷(wan)( ETO ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
環氧乙烷( ETO ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 1%LEL
光氣( COCL2 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
光氣( COCL2 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
硅(gui)烷(wan)( SiH4 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
硅(gui)烷(wan)( SiH4 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
硅烷( SiH4 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氟(fu)氣( F2 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
氟(fu)氣(qi)( F2 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氟氣( F2 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氟化(hua)氫( HF ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
氟化(hua)氫( HF ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
溴化氫( HBr ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
溴化氫(qing)( HBr ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
乙硼烷( B2H6 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
砷化氫( AsH3 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
砷(shen)化氫( AsH3 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
鍺(zang)烷( GeH4 ) 0-2ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
鍺烷(wan)( GeH4 ) 0-20ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
肼, 聯氨( N2H4 ) 0-1ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
肼, 聯氨( N2H4 ) 0-300ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
四氫噻吩( THT ) 0-100mg/m3 ＜±3%(F.S) 0.01 mg/m3
溴氣( Br2 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
溴氣( Br2 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
乙炔( C2 H2 ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
乙炔( C2 H2 ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
乙炔( C2 H2 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
乙(yi)炔( C2 H2 ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
乙(yi)烯( C2 H4 ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
乙(yi)烯( C2 H4 ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
乙烯( C2 H4 ) 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
乙烯( C2 H4 ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
乙醛 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
乙醇( C2 H6O ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
乙醇( C2 H6O ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
乙(yi)醇( C2 H6O ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
甲醇( CH6O ) 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 0.1%LEL
甲(jia)醇( CH6O ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
甲醇( CH6O ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二硫化碳( CS2 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
二硫化碳( CS2 ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
丙烯腈( C3H3N ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
丙(bing)烯腈( C3H3N ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
丙烯腈( C3H3N ) 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
甲胺(an)( CH5N ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
典氣( I2 ) 0-50ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
苯(ben)乙烯(xi)( C8 H8 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
苯乙(yi)烯( C8 H8 ) 0-6000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氯(lv)乙烯( C2 H3CL ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
三氯乙(yi)烯(xi)( C2 HCL3 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
四氯乙烯( C2 CL4 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
溴(xiu)甲烷(wan)( CH3 Br ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
溴甲烷( CH3 Br ) 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
溴甲烷( CH3 Br ) 0-200g/m3 ＜±3%(F.S) 0.1g/m3
硫酰氟( SO2 F2 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
硫酰(xian)氟( SO2 F2 ) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
苯(ben)( C6 H6 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
苯(ben)( C6 H6 ) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
甲(jia)苯( C7 H8 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
甲苯( C7 H8 ) 0-20000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
二甲苯( C8 H10 ) 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
二甲苯( C8 H10 ) 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
六氟化硫（SF6） 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
六氟(fu)化硫（SF6） 0-3000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
VOC/ TVOC 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
VOC/ TVOC 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
VOC/ TVOC 0-1000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
VOC/ TVOC 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
PID 0-10ppm ＜±3%(F.S) 0.001ppm
PID 0-200ppm ＜±3%(F.S) 0.1ppm
PID 0-2000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
PID 0-10000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
笑氣(N2O) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
笑氣(N2O) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
氦氣(qi)(He) 0-100%vol ＜±3%(F.S) 0.01vol
氬氣(Ar) 0-100%vol ＜±3%(F.S) 0.01vol
三氟化氮(NF3) 0-100ppm ＜±3%(F.S) 0.01ppm
三氟化氮(dan)(NF3) 0-5000ppm ＜±3%(F.S) 1ppm
注：手提式紫外差分氣體分析儀，其它未在(zai)上表列(lie)出的氣(qi)體以及其他檢測量程可來電咨詢